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v 離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統(tǒng)配置與實際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果
v 應(yīng)用方向：
? 磁阻式隨機存取存儲器（MRAM）
? 介電薄膜
? III-V族光電子材料刻蝕
? 自旋電子學(xué)
? 金屬電極和軌道
? 超導(dǎo)體
? 激光端面鍍膜
? 高反射（HR）膜
? 防反射（AR）膜
? 環(huán)形激光陀螺反射鏡
? X射線光學(xué)系統(tǒng)
? 紅外（IR）傳感器
? II-VI族材料
? 通信濾波器
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